Sự phụ thuộc của đặc tính tế bào quang điện hữu cơ vào tính chất của lớp đệm điện cực dương NiO",
Tác giả: Nguyễn Đức Tường, Nguyễn Minh Cường, "
Nhà xuất bản: Tạp chíKhoa học và Công nghệ Thái nguyên, 118, 04, (2014), 80-86.
Màng mỏng oxit Niken (NiO) được nắng đọng bằng phương pháp Phún xạ Từ trường điện cực âm, được sử dụng làm lớp đệm điện cực dương trong tế bào quang điện hữu cơ trên cơ sở đa tiếp giáp phẳng CuPc/C60. Trước tiên, chúng tôi nhận thấy rằng thuộc tính của lớp màng mỏng NiO phụ thuộc vào áp suất riêng phần khí oxy trong quá trình lắng đọng. Phim NiO là màng kim loại dẫn điện trong khoảng áp suất riêng phần của oxy từ 0 đến 2%, là bán dẫn loại p trong khoảng 2 đến 6% và lớn hơn 9%, là bán dẫn loại n khi áp suất riêng phần của oxy trong khoảng từ 6 đến 9%. Hình thái học của những phim NiO cũng phụ thuộc vào áp suất riêng phần của oxy. Thật vậy, đối với những phim có độ dầy 4 nm thì độ nhám tuyệt đối của bề mặt là 6,59 nm khi phún xạ ở lưu lượng oxy là 7,4%, và ở 16,67% thì độ nhám cao gấp đôi, 12,27 nm. Độ nhám có ý nghĩa cho “quá trình hình thành” cần thiết trong Pin quang điện hữu cơ nhằm giảm dòng điện rò. Tuy nhiên, nếu lớp đệm điện cực dương ở độ dầy 20 nm thì quá trình hình thành này sẽ không cần thiết.